一般紅外熱像儀加裝鍺玻璃是作為儀器的窗口，起到對(duì)后續(xù)光學(xué)系統(tǒng)及紅外探測(cè)器件的保護(hù)作用。但由于鍺材料的折射率為4，直接使用會(huì)對(duì)入射信號(hào)產(chǎn)生較大損失，為了提高紅外信號(hào)的透射能力，鍺玻璃上還需鍍制合適的薄膜，以提高透射率并保護(hù)鍺透鏡表面。 鍺夾層玻璃，在2-16um具備非常好的透光度能，物理性質(zhì)也相對(duì)穩(wěn)定，不容易與氫氧化物，酸性物質(zhì)氣體和水反映。紅外線測(cè)溫儀器和熱成像儀里邊必須采用中遠(yuǎn)紅外線的濾色片，DIAS紅外測(cè)溫儀和熱成像儀一般工作中波段在2-13um，而鍺夾層玻璃恰好先在遠(yuǎn)紅外線具備非常好的透光度，一般的光學(xué)鏡片在這種波段透過(guò)率極低，因此沒(méi)辦法完成。 再加在鍺夾層玻璃上鑲上光學(xué)薄膜，能夠 大大增加它的透過(guò)率，降低鍺夾層玻璃表層的透射率。鍺夾層玻璃在不可見光波段不是通過(guò)的。在一些熱成像儀中人們還可以用硅晶體來(lái)替代鍺夾層玻璃，硅晶體的波段沒(méi)鍺夾層玻璃那么遠(yuǎn)。
硅(Si)多晶硅是一種有機(jī)化學(xué)可塑性原材料，強(qiáng)度高，不溶解水，它在1-7μm波段具備非常好的透光度能，另外它在遠(yuǎn)紅外線波段300-300μm也具備非常好的透光度能，它是其他光紅外線原材料所不具備的特性。
硅(Si)多晶硅一般用以3-5μm中波紅外線學(xué)對(duì)話框和電子光學(xué)濾光的基片，因?yàn)樵撛牧蟼鳠嵝阅芎?，相?duì)密度低,，也是制做激光器反射鏡片或DIAS紅外測(cè)溫儀及紅外線光學(xué)激光鏡片的常見原材料。
通紅外熱成像儀和DIAS紅外測(cè)溫儀窗口上用鍺玻璃，主要考慮8-14um這一波段，不鍍膜情況下鍺玻璃的透過(guò)率只有40-50%，而鍍了增透膜之后的透過(guò)率可以達(dá)到90%。而且多數(shù)客戶在鍺玻璃還會(huì)要求鍍DLC類金剛石碳膜，用來(lái)加強(qiáng)鍺玻璃的硬度，起到一定的防爆效果。
紅外測(cè)溫技術(shù)檢出的電力設(shè)備的故障類型主要分為兩大類：
一、設(shè)備的外部熱故障。
指設(shè)備的發(fā)熱部位裸露于環(huán)境中,采用紅外熱像儀直接觀測(cè)其表面熱分布狀態(tài),并迅速確定其位置。外部熱故障產(chǎn)生的主要原因是設(shè)備部件的接觸電阻異常增大引起的。
(1)設(shè)備部件接觸面不平整或氧化。
(2)接觸面的連接質(zhì)量問(wèn)題.
使用紅外熱像儀檢出的常見設(shè)備外部故障有:各種裸露的電氣接頭部分,如隔離刀閘觸頭、穿墻套管接頭、電設(shè)備出線接頭等
二、設(shè)備的內(nèi)部熱故障。
電力設(shè)備由于內(nèi)部故障發(fā)熱,而發(fā)熱的部位封閉于設(shè)備內(nèi)部,無(wú)法采用熱像儀直接觀察、確定故障的具體位置,只能通過(guò)獲取設(shè)備表面的熱分布圖,進(jìn)行分析、類比加以判斷。
造成設(shè)備內(nèi)部故障原因如下：
(1)設(shè)備內(nèi)部電氣連接或觸頭接觸不良,引起的電流熱效應(yīng)。
(2)內(nèi)部介質(zhì)損耗增大引起發(fā)熱。
(3)內(nèi)部電壓分布不良或泄漏電流過(guò)大引起發(fā)熱。
(4)內(nèi)部絕緣老化、受潮、缺油或渦流引起(鐵損增大)發(fā)熱。
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